Установка ионно лучевого травления в интернет-магазине EQUM.RU

Установка предназначена для высокопрецизионного травления слоев материалов с высокой точностью.

Характеристики:

1.    Базовое давление в камере 5х10^-6 торр, достигаемое за 20 минут;

2.    Ручная загрузка и выгрузка пластин;

3.    Установка имеет возможность работы ионного источника с газами Ar, O₂;

4.    Установка имеет возможность удаленного управления углом наклона подложкодержателя в диапазоне ± 90 °С;

5.    Скорость вращения подложки 10 об/мин;

6.    Скорость травления по Cu: 20 нм/мин, по Si: 50 нм/мин;

7.    Неоднородность травления по толщине 2% в зоне луча и 5% в области;

Комплектность:

• Объемная камера из нержавеющей стали 14” с магнитным дверным контактом MDC 8” и окном 5”.
• Фронтальная дверь 8” c окном для наблюдения 5”
• Турбомолекулярный насос Pfeiffer 1200 Turbo 1240 л/с с безмасляным насосом Anest Iwata ISP-500C обеспечивают базовое давление откачки диапазона 10^-8 торр
• Широкодиапазонный манометр: Edwards WRG D NW (Ø) 25, Baratron 626А 0,1 торр.
• Блок ионного источника Kauffman KDS 75 c двойной нитью: установлен на правой стороне камеры.
• Ионный источник: диаметр пучка 8 см, ионный ток 250мА, 1200эВ, с акселератором 300 Ма, 600 В, с нейтрализатором и пневматическим затвором.
• Столик 6" для подложек: бескислородная медь высокой проводимости + нержавеющая сталь, с водяным охлаждением, вращение и привод от вакуумного шагового двигателя, оптимизирована для пластин 4”, может наклоняться относительно ионного луча на +/- 90 °С, управление посредством ПК.
• Заслонка столика
• Расходомеры 50 sccm M100B

Система управления: Промышленный ПК c ОС на базе Windows

Установка ионно лучевого травления находится на складе магазина. Уточнить информацию о стоимости и характеристиках товара можно по телефону